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问 请问微型真空泵对密闭容器抽真空的时间问题
匿名用户 对于微型真空泵对密闭容器抽真空的时间不是一个简单的算数问题，不少同事对此问题都有误解。比如，用一台5L/min的微型真空泵对一个10升的容器抽真空，并不是2分钟就可以使容器内的真空度达到泵的极限真空。当泵在抽气时，开始的一瞬间抽速确实是5L/min，但一旦容器内有了真空，抽气速率就下降了，随着容器内的真空度不断升高，抽气速率也不断下降，这不是一个简单的线性变化过程，而是一个呈指数函数变化的过程。在成都气海机电制造公司（是国内最早开始生产微型真空泵、微型气泵的一家企业）的网站上有这个函数关系式和计算程序。但各位同事在计算时要注意，其中的“抽气速率”应该用泵的有效值代入运算，而非峰值流量。还有，计算结果是理论值，没有考虑实际情况（比如气体泄露），因此实际时间比计算值要长些。
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问 变频空调是安装前抽真空还是安装完成后抽真空？
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问 真空收纳袋好吗(急)
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问 真空压缩袋是什么意思？
Ayur 真空压缩袋: 是现在一种主要用于装纳棉被,衣物等物品的收纳产品.它的原理为利用大气压把本来膨胀的棉被等物品压扁，隔离外界空气，以节约空间，达到防尘，防霉，防潮，防虫的作用．但是虽为真空压缩袋，却又不是绝对真空的，现在的产品一般是运用吸尘器或是手动抽气泵来抽掉袋内的空气． 它主要是以塑料的，ＰＡ＋ＰＥ ＰＡ＋ＰＥＴ 或是ＰＥ为原料的袋子，再加上一个抽气的阀门构成的． 是现在收纳家族的一个新成员． 更详细： 真空压缩袋具有防潮、防霉、防蛀、防异味等功能，利用抽气工具抽掉压缩袋及衣物棉被内的空气，从而达到减小体积，增加收纳空间的效果！ 压缩袋的材质，一般PET+PE的袋子，粘合性比较好，也是现在袋子用的较多的材质。但是这种真空压缩袋的缺点是比较脆。再者就是在超市常见的MOPE的压缩袋，这种材质的袋子粘合性不好，比较容易漏气，他特别柔软，感觉上比其它的袋好些。 现在出口压缩袋用的较多材质是PA+PE，这种材质的袋子柔韧性比较好，粘合度也较高，不容易漏气，因此成本也比较高。 真空压缩袋的规格了，其实就看大家了，喜欢怎么放都可以，只要能放进去，不影响压缩就可以。我只提一些小建议，方便大家选择： 一般130*90CM的压缩袋用于2米以上的厚被； 110*70CM的用于双人厚被或两床单人被； 100*80CM的用于两床单人被； 100*67CM用于双人普通被； 86*55CM可用于空调被、毛毯、枕头、羽绒服等； 80*56CM可放单人枕头2个，毛衣等； 50*60CM的可用于存放薄毛衣之类的衣物若干件； 50*35CM的可用于存放小宝贝的衣物或小衣物。 还有，就是要看细节，优质的压缩袋，一般封口和抽气阀门做的也很精致 . 另外有人说袋子越厚越好，这个不一定。厚的袋子容易裂，也经不起折叠。 薄的柔软性好，但容易破。
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问 电厂运行真空泄漏怎样检测
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问 压力真空表怎么使用
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问 真空镀膜分几种？
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问 真空磁控溅射技术是？
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问 真空镀膜的种类
偽裝ぃ 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。 蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。 为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层／秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。 溅射镀膜 用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二极溅射示意图]。通常将欲沉积的材料制成板材——靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10～1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数真空镀膜 量级。 离子镀 蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。 参考书目
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问 真空助力车 真空包里没有气 刹车踩着是不是很轻
5条回答
无法忘记你 
√好好学习℡ 
Cooper 
yoyo 
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