问用磁控溅射技术怎样制备绝缘材料的薄膜

你好！射频溅射就可以了，非常常见的一种方法。打字不易，采纳哦！

一般磁控溅射方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法：PVD（物理气象沉积）、CVD（化学气象沉积）。物理气象沉积，用陶瓷靶（绝缘靶）溅射，缺点是溅射速率慢，溅射功率高，靶材容易破裂。化学气象沉积，用活泼金属靶（Al），在溅射过程中充入适量的反应气体（N2）。使铝原子在沉积过程中被氧化成氮化铝。调节氮气的流量可以完成溅射速率和纯度的特有关系。绝缘的氮化铝落在基体上形成绝缘膜层。