磁控溅射可以制备有毒物质薄膜么

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  • PVD(物理气象沉积),用活泼金属靶(Al)、CVD(化学气象沉积)一般磁控溅射方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法,靶材容易破裂。 化学气象沉积,溅射功率高。 物理气象沉积,用陶瓷靶(绝缘靶)溅射,缺点是溅射速率慢
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