问关于溅射靶材，镀膜材料类的产品 ，刚开始接触，如何熟悉产品 ，从哪方面了解？

镍靶的话，一般都是用氩气吧。颜色靠你控制镀膜速率跟充气量来决定的。不过镀玻璃膜的话好像不是用磁控溅射的吧，需要半透效果？如果是光学镀膜的话，那就要根据光波来决定了，不同的波段所呈现出来的颜色是不一样的，这个需要用专业的软件来控制tio2跟sio2重叠镀膜，来呈现不同的折射率，得到不同的颜色。如果你是想买书看的话，是没有多大用处的，这个涉及到了光学之类的，并且都讲的相当深奥，跟生产实际操作是完全两码事，如果你学历够高，或许看看这些书，能在理论上有一定的帮助，不过对你操机来说是没什么用处的……另外镀膜的颜色的话，融料的时候电子枪要控制的稳……其实只要你自己在实际操作中多注意，多记录还是有一定的规律的，不过机台的稳定性是没法保证的，所以相同的参数，镀出来的颜色也有可能不同，这个就要看你平时对你自己机台的了解了……

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早点的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。厚度均匀性主要取决于： 1。基片材料与靶材的晶格匹配程度.2、基片表面温度 3. 蒸发功率，速率　4. 真空度 5. 镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1。晶格匹配度 2。 基片温度 3。蒸发速率 .要想熟悉产品，必须熟悉原理，原理如下：磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。 具体情况要亲手操作才能了解，希望能采纳！！