问磁控溅射时基片比样品台小可以吗

磁控靶辉光不稳、插板阀动作时漏气、ar气流量不稳定、真空室泄露、真空室内污染、外界干扰等都可引起复合真空计显示的数字漂浮不定

一般的磁控溅射基材都是不加温的，镀膜过程中，原子、原子团、分子沉积在基材上引起的温度升高一般不会太高，当然如果想附着力提高的话，提前预热基材倒是可以的。一般普通磁控溅射基材温度也就40-50℃。溅射材质关系不是太大，倒是溅射功率影响很大，调整溅射功率控制基材温度吧。塑料上镀膜一般没有问题，国内多家手机壳镀膜都在实现。主要就是需要提前对塑料基材进行去油、清洗等处理。