问溅射靶材的介绍

溅射靶材是通过不同的工艺条件制备的圆饼状，方形，管型靶材，用于磁控溅射镀膜的材料。根据材质不同，工艺不同等又可以细分好多种类。常见靶材分类如下：常规金属靶材镁Mg、锰Mn、铁Fe、钴Co、镍Ni、铜Cu、锌Zn、铅Pd、锡Sn、铝Al小金属靶材铟In、锗Ge、镓Ga、锑Sb、铋Bi、镉Cd难熔金属靶材钛Ti、锆Zr、铪Hf、钒V、铌Nb、钽Ta、铬Cr、钼Mo、钨W、铼Re贵金属靶材金Au、银Ag、钯Pd、铂Pt、铱Ir、钌Ru、铑Rh、锇Os半金属靶材碳C、硼B、碲Te、硒Se稀土金属靶材钆Gd、钐Sm、镝Dy、铈Ce、钇Y、镧La、镱Yb、铒Er、铽Tb、钬Ho、铥Tm、钕Nd、镨Pr、镥Lu、铕Eu、钪Sc陶瓷靶材氧化锌铝AZO、氧化铟锡ITO、氧化锌ZnO、氮化铝AlN、氮化钛TiN、氮化硼BN、钛酸钡BaTiO3、钛酸铋BiTiO3、碳化硅SiC、钛酸锶SrTiO3、碳化钛TiC、碳化钨WC、铌酸锂LiNbO3合金靶材金锡合金AuSn、金锗镍合金AuGeNi、锌铝合金ZnAl、铝铜合金AlCu、钴铁硼合金CoFeB、铁锰合金FeMn、铱锰合金IrMn、锆钛合金ZrTi、镍铬合金NiCr、铜铟镓合金CuInGa、铜锌锡硫合金CZTS

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。