问真空镀膜偏压选取

占空比是指电压的高电平和低电平输出占有比例，无论你调高还是调低其电压的峰值是不改变的，只是相对占有周期比例变长而已，关于镀膜的占空比调节，这要看镀什么膜层，达到什么清洗效果！还要看偏压电源是什么属性的？你这样很难具体讨论！

真空镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,jtpz多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。 用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理（不喷底漆）、镀铝膜、镀保护膜工艺。在abs,pc,pbt,pe,pp,pa66等塑料基体上直接镀膜，不需喷底漆，也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备），在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%naoh溶液10分钟铝层不腐蚀，去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。磁控溅射镀膜设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机；旋转磁控溅射镀膜技术，是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术，靶材利用率达到70～80%以上，基体镀膜均匀，色泽一致。 b平面磁控溅射镀膜机； c中频磁控溅射镀膜机； d射频磁控溅射镀膜机。可以在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢、镍、钼、硅、钛铝及金属反应物（氧化物、氮化物、炭化物）、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附着力好等特点。多弧离子镀膜设备及技术该技术在各种金属和非金属表面上，如不锈钢、铝合金、铜、铁以及陶瓷、玻璃等涂镀各种金属、非金属及其化合物的膜层和复合膜层，如ti、zr、tin、tic、tio2、zrn、zrc|、zro等，产生耐磨、耐蚀、耐用的各种颜色装饰效果：如金色系列、彩色系列、黑色系列等等可广泛用于建筑、家具、机械工模具等行业。等离子扩渗镀膜设备及技术离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将n、c等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。

应该这样理解，偏压高低决定的是轰击离子的能量大小，而占空比大小则决定轰击离子的数量，两者搭配使用并没有一个固定的公式，如果非要定性两者关系的话，我觉得用“两者相乘等于轰击效果”来形容会比较恰当些。换句话说，只要在膜层结合力要求的范围内，很多种参数包括高偏压低占空比或者低偏压高占空比，都是可以的。我在五金手机壳镀膜时，试过多种参数，在膜层不厚的时候，都看不出差异来，试过用30的占空比有出现过掉膜，最后是选了个比较折中位置的参数，大概是100伏偏压，60的占空比。