问电子束镀膜属于蒸镀还是溅射？

这两个虽然都属于pvd，实际区别太大了，几乎没法比较，均匀性溅镀好，致密性溅镀好，沉积速率貌似是蒸镀高，具体建议楼主找相关书籍阅读。

1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物理气相沉积（PVD）的工艺方法。2.蒸发镀主要包括：电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。3.您所说的E型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。4.S枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶，阴极靶材为环状锥形，安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场，其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。电子束被约束在靶面附近运动，电子流密度很大，在靶面附近产生很强的非弹性碰撞，电离几率很大，形成很强的等离子体。