问磁控溅射基片台加热，破真空之后温度升高是什么原因

你说呢...

不同的设备的加热电流相差很大，没有固定的指标。磁控溅射镀膜机的基片加热是在开始镀膜时给基片一定的温度，镀膜开始后，基片的温度会不断上升，需要降低加热的电流，最后可能不需要启动加热了。可以再基片附近安放一个热偶，标定一下，在不同的时间，基片的相对温度，同时调整加热的电流，使基片基本保持在一个温度范围内，并做好记录，这个记录就是镀膜的加热工艺。