保护基团

在 有机合成中，含有2个或多个 官能团的 分子，为使其中某个官能团免遭反应的破坏，常用某种 试剂先将其保护，待反应完成后再脱去 保护剂。

例如，化合物1转变为2时，需先将 羰基用 乙二醇保护，否则用 氢化铝锂(LiAlH4) 还原时，羰基也将被还原。

保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR′) 或酯类(ROCOR′)，前者对氧化 　　剂或还原剂都有相当的稳定性。

　　可以用碱脱去醇ROH质子，再与合成子 +CH3作用，如使用试剂NaH / 　　Me2SO4。也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应，如使用 Ag2O / MeI；但对 　　三级醇不宜使用这一方法。醇类也可与重氮甲烷CH2N2，在Lewis酸（如 　　BF3·Et2O）催化下形成甲醚. 　　脱去甲基保护基，回复到醇类，通常使用Lewis酸，如BBr3及Me3SiI， 　　也就是引用硬软酸碱原理（hard-soft acids and bases principle），使氧原 　　子与硼或硅原子结合（较硬的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱） 　　将甲基（较软的共轭酸）除去。

　　醇与异丁烯在Lewis 酸催化下制备。叔丁基为一巨大的取代基（bulky 　　group），脱去时需用酸处理 　　3.

　　制备时，使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide)反应，通常以加氢反 　　应或锂金属还原，使苄基脱除，并回复到醇类。 　　4. 形成三苯基甲醚 (ROCPh3) 　　制备时，以三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4-二甲胺基吡啶 　　（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）为催化剂。 　　5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3 　　制备时，使用甲氧基氯甲烷与醇类作用，并以三级胺吸收生成的HCl。 　　甲氧基甲醚在碱性条件下和一般质子酸中有相当的稳定性，但此保护基团可用强 　　酸或Lewis酸在激烈条件下脱去。 　　7. 形成四氢吡喃 ROTHP 　　制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。欲回收恢复到 　　醇类时，则在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。有机合成中常引用这 　　种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩酮上的碳原子），使得NMR谱的解 　　析较复杂。 　　8. 形成叔丁基二甲硅醚 ROSiMe2（t-Bu）

　　制备时，用叔丁基二甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用，此保护基比三 　　甲基硅基稳定，常运用在有机合成反应中，一般是F-离子脱去。 　　9. 形成乙酸酯类 ROCOCH3 　　脱去乙酸酯保护基可使用皂化反应水解。乙酯可与大多数的还原剂作 　　用，在强碱中也不稳定，因此很少用作有效的保护基团。但此反应的产率极高， 　　操作也很简单，常用来帮助决定醇类的结构。 　　10 形成苯甲酸酯类 ROCOPh 　　制备时，用苯甲酰氯与醇类的吡啶中作用。苯甲酸酯较乙酯稳定，脱去 　　苯甲酸酯需要较激烈的皂代条件。