特征尺寸

       特征尺寸（即线宽）：是指IC前道工序工艺可达到的最小导线宽度，是IC工艺先进水平的主要指标。线宽越小，集成度越高，在同一面积上可集成更多的IC。

       微电子技术中，特征尺寸是指器件中最小线条宽度。对MOS器件而言，通常指器件栅电极所决定的沟通几何长度，是一条工艺线中能加工的最小尺寸，也是设计中采用的最小设计尺寸单位（设计规则），常常作为技术水平的标志。如显示芯片制造工艺在1995年以后，从0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米

、0.11微米一直发展到目前最新的90纳米，而未来则会以80纳米作为一个过渡，然后进一步发展到65纳米。